迄今，能源、材料和信息被認為是新興新技術革命的三大支柱。在材料方面，電子材料的發展尤為引人注目。劃時代的半導體生產新技術、新材料、新儀器不斷涌現，迅速成為生產力和生產工具，在一定程度上促進了集成電路產業的快速發展。

　　半導體工業在生產過程中需要大量的清洗水。隨著半導體工業的不斷發展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles的要求也越來越嚴格。由于半導體超純水對多項指標的要求較高，超純水不同于它他行業對水的要求，半導體行業對超純水的水質要求較為嚴格。目前，我國常用的超純水標準是國家標準《電子級水》(GB/T1446.1-2013)和美國標準(Astm-D5127-13)。

　　超純水設備可連續穩定地制備優質超純水，水質穩定在ppt水平，特別是硼離子可≤5ppt，可更好地幫助半導體企業的發展，形成更強的企業競爭力。

　　超純水設備采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，設計成熟、可靠、自動化程度高，保證處理后出水電阻率達到18mΩ。CM以上。EDI處理裝置廢水產量少，不會污染環境，具有很高的環境效益和經濟效益。經過技術升級，精混床無需任何操作即可穩定運行兩年。其出水水質能滿足芯片生產用水的相關標準，降低企業生產風險和成本。在萊特萊德EDI超純水設備的大力支持下，半導體行業的繁榮將繼續上升。